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- 2023-04-25 发布于四川
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本公开提供一种半导体装置及该半导体装置的制造方法。一种半导体装置包括:基板;第一连接结构,其设置在基板上,第一连接结构包括第一连接导体;晶体管,其设置在基板和第一连接结构之间;第一接合结构,其包括连接至第一连接导体的第一接合焊盘;第二接合结构,其包括连接至第一接合焊盘的第二接合焊盘;第二连接结构,其包括连接至第二接合焊盘的第二连接导体;层叠结构,其设置在第二连接结构上;沟道结构,其穿透层叠结构;以及芯片保护件,其穿透第二连接结构、第二接合结构、第一接合结构和第一连接结构,芯片保护件围绕层叠结构和
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114068569 A
(43)申请公布日 2022.02.18
(21)申请号 202110338972.1 H01L 21/768 (2006.01)
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