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为了解决现有技术中多元合金膜层制备困难的问题,所以本发明提供了一种多元合金膜层的制备工艺,具体包括以下步骤,步骤一,制作溅射性放射腔体,将磁控性溅射源设置在真空腔内部并在真空腔内设置沉积工作台,且沉积工作台与磁控性溅射源之间保持固定距离;步骤二,准备基材和不同材质的靶材若干;步骤三,将不同靶材配合焊接在基材上并将其整体放入至溅射性放射腔体内所对应的沉积工作台上;步骤四,磁控性溅射源工作,在靶材等离子化后充分混合重新成膜在工件上;本发明可解决特殊多元合金膜层的制备的工艺问题,相较于现有技术,制作工
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114134470 A
(43)申请公布日 2022.03.04
(21)申请号 202111336302.2
(22)申请日 2021.11.12
(71)申请人 昆山世高新材料科技有限公司
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