一种用于晶圆湿法腐蚀工艺的金属掩膜制备方法.pdfVIP

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2023-04-27 发布于北京
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一种用于晶圆湿法腐蚀工艺的金属掩膜制备方法.pdf

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本发明公开了一种用于晶圆湿法腐蚀工艺的金属掩膜制备方法，选取晶圆，对晶圆进行去污清洗并烘干，利用电子束蒸发或磁控溅射在晶圆表面蒸镀金属，形成由金属粘附层和金属阻挡层组成的金属复合膜，采用高温快速退火的方式处理镀膜后的晶圆，在晶圆表面形成致密、附着性强且耐腐蚀的金属掩膜，制作用于刻蚀晶圆图案的光刻版，对晶圆进行光刻，将图案从光刻版转移到光刻胶中，然后使用相应的腐蚀液或干法刻蚀工艺进行金属掩膜刻蚀，将图案从光刻胶中转移到金属掩膜；本发明方法可以制备用于湿法腐蚀的高精度金属掩膜。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114164402 A (43)申请公布日 2022.03.11 (21)申请号 202111396128.0 G03F 1/68 (2012.01) (22)申请日 20