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- 2023-04-27 发布于四川
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本实用新型公开了一种半导体产品直立清洗设备，其包括清洗台，所述清洗台的一端竖直设置有侧支板，所述侧支板的顶部水平设置有顶板，所述顶板的下方吊设有第一管体，所述第一管体上设置有向下伸出的两处喷水管体，所述两处喷水管体的内侧分别设置有多个喷头，所述两处喷水管体之间竖直设置有用于放置半导体产品的产品框架，所述清洗台上设置有用于驱动产品框架水平直线移动的驱动机构。本实用新型的清洗设备清洗半导体产品时半导体产品不会产生压痕，有利于保证半导体产品的质量，在清洗设备对半导体产品进行传动输送和清洗时不会产生金属
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218902865 U
(45)授权公告日 2023.04.25
(21)申请号 202223325540.6
(22)申请日 2022.12.09
(73)专利权人 昆山市广程机械设备有限公司
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