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- 2023-04-27 发布于北京
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本申请涉及一种清洁装置及方法，用于灭弧室的清洁，灭弧室包括灭弧腔，清洁装置包括均压环、净化组件、电源件及冲击器。均压环用于电性连接于灭弧腔，净化组件包括过滤器、气泵以及多个依次串联连通的静电吸附腔，电源件分别电性连接于均压环和静电吸附腔，冲击器用于敲击灭弧室。本申请通过电场变化、冲击器冲击、气泵形成的气流，三重作用叠加，迫使灭弧腔内的金属微粒悬浮，微粒随着气流流入到清洁装置中实现过滤，最终解决了目前对于SF6罐式开关灭弧腔内金属微粒的清洁缺乏有效的手段的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114130536 A
(43)申请公布日 2022.03.04
(21)申请号 202111526725.0 (74)专利代理机构 华进联合专利商标代理有限
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