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提供了用于衬底处理中,例如在半导体制造应用中的动态工艺控制的方法和系统。提供了一些示例系统和方法,其用于原子层沉积(ALD)工艺中的高级监控和机器学习。一些示例还涉及用于室参数匹配和气体管线填充时间的动态工艺控制和监控。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114222830 A
(43)申请公布日 2022.03.22
(21)申请号 202080057459.9 西达巴 ·阿杜尔
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