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本发明公开了一种半导体芯片基板制造用可进行快速清洁的蚀刻装置,包括底部外壁两侧均焊接有支撑板的固定架,所述固定架底部内壁放置有蚀刻箱,且固定架底部内壁放置有清洗箱,所述固定架底部内壁放置有冲洗箱,且固定架顶部内壁开有滑槽,所述滑槽顶部内壁安装有伺服电机,且伺服电机输出轴通过联轴器连接有丝杆,所述丝杆上螺接有滑块。本发明可将基板放入蚀刻箱内进行蚀刻反应,蚀刻完成后,进行清洗,将基板上残留的反应液清洗掉,避免过渡蚀刻,在对基板清洗完之后,可再对基板进行冲洗,确保反应液被完全洗去,冲洗完成后,可对基板
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114267626 A
(43)申请公布日 2022.04.01
(21)申请号 202111576929.5
(22)申请日 2021.12.22
(71)申请人 康耐威自动化科技(昆山)有限公司
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