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本申请属于清洗剂技术领域,尤其涉及一种水基清洗剂及其制备方法。以所述水基清洗剂的总质量为100%计,包括如下质量百分含量的原料组分:非离子表面活性剂1.5~3%,阴离子表面活性剂1~2%,有机溶剂10~15%,增效剂1.5~3%,稳定剂1~2%,余量的水;水基清洗剂中不含卤素、氮元素和磷元素。本申请水基清洗剂,不含卤素、无磷、无氮,不会造成水体富营养化,环境友好,且水基清洗剂无闪点、不燃不爆、泡沫少,具有优异的材料兼容性能,适用于喷淋清洗和超声波清洗等工艺。适用于材料敏感,污水排放要求严格的应用
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114214130 A
(43)申请公布日 2022.03.22
(21)申请号 202111545904.9 C11D 3/60 (2006.01)
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