一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用.pdfVIP

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2023-05-05 发布于四川
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一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用.pdf

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本发明属于过渡金属配合物的制备领域，涉及一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用。该含单阴离子配体过渡金属配合物的通式为：L(V＝O)X2，其中，L为氮负离子配体，X选自卤素，该配合物的制备方法包括如下步骤：配体原料与三甲基氯硅烷反应，得到含三甲基硅基取代的化合物；将得到的含三甲基硅基取代的化合物和等当量的VOX3反应，得到所述含单阴离子配体过渡金属配合物。本发明的优点如下：不需要使用昂贵且危险的烷基锂试剂，得到含氮负离子配体的过渡金属钒配合物，制备工艺路线简单(两步反应)，反应条件温

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114292292 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202111678155.7 C08F 4/68 (2006.01) (22)申请日 20