一种带有双酯结构的高纯光酸抑制剂及其合成方法.pdfVIP

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2023-05-05 发布于四川
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一种带有双酯结构的高纯光酸抑制剂及其合成方法.pdf

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本发明适用于功能高分子材料领域，提供了一种带有双酯结构的高纯光酸抑制剂，结构式如下：其中R1、R2、R3选自碳原子数1～4的饱和烷基。本发明以甲基丙烯酸酯为结构单元，在其中引入碱性基团形成带有双酯结构的高纯光酸抑制剂，可用来制备光刻胶的组合物，它可以控制非曝光区域的光酸扩散，同时能更有效的改善本身在光刻胶内的分布，提高光刻胶分辨率和线宽粗糙度，改善光刻胶的成膜能力。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114276263 A (43)申请公布日 2022.04.05 (21)申请号 202111636094.8 C07C 67/08 (2006.01)