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一种提升翘曲片上细线条光刻成品率的方法.pdfVIP

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  • 2023-05-05 发布于四川
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一种提升翘曲片上细线条光刻成品率的方法.pdf

    本发明涉及一种提升翘曲片上细线条光刻成品率的方法，包含如下步骤:1）在翘曲片上摸索细线条光刻条件，选定初始线宽L1对应的剂量、焦距和照明方式等曝光参数；2）基于1中选定的光刻参数，在翘曲片上全片曝光，得到尺寸为L1的初始图形；3）基于2中获得的初始图形，摸索化学缩放（shrink）条件，选定目标变化量L对应的混合烘烤温度/时间、显影时间等参数；4）利用1和3中选定的工艺条件，在翘曲片上通过化学shrink工艺获得目标尺寸L2。优点：1）可有效增加翘曲片上细线条光刻的焦深窗口，提升关键层成品率；2

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114300343 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202111504226.1 (22)申请日 2021.12.10 (71)申请人 中国电子科技集团公司第五十五研

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