用于光刻设备的防护膜隔膜.pdfVIP

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2023-05-05 发布于北京
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用于光刻设备的防护膜隔膜.pdf

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提供了一种用于光刻设备的防护膜隔膜，所述隔膜包括未被覆盖的碳纳米管。还提供一种再生防护膜隔膜的方法，所述方法包括分解前体化合物，并且将至少一些分解产物沉积到防护膜隔膜上。还提供一种降低防护膜隔膜的蚀刻速率的方法，所述方法包括在防护膜隔膜的区域中提供电场以将来自防护膜的离子重新导向，或提供加热元件以将来自防护膜的自由基脱附，优选地，其中，防护膜隔膜为碳纳米管式防护膜隔膜；以及还提供一种用于光刻设备的组件，所述组件包括邻近防护膜隔膜的偏压电极或者包括防护膜隔膜或者用于防护膜隔膜的加热装置。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114286965 A (43)申请公布日 2022.04.05 (21)申请号 202080059811.2 (72)发明人 A ·尼基帕罗夫　S ·伯恩特松　