- 1
- 0
- 约7.82千字
- 约 10页
- 2023-05-05 发布于四川
- 举报
本发明属于微透镜阵列制造相关技术领域,其公开了一种大面阵三维球形微透镜阵列及其制备方法,制备方法包括以下步骤:(1)在基板的表面上旋涂预定厚度的光刻胶,并利用光刻与热回流工艺对得到的光刻胶层进行处理以得到目标微透镜阵列的结构母模;(2)在结构母模的表面制备PDMS层,并在固化后将PDMS层进行脱模剥离,以得到目标微透镜阵列的凹模;(3)以制备微透镜的材料为原料在基底上制备目标层,并采用凹模对目标层进行压印、紫外光固化及脱模剥离,以在基底上制备得到三维球形微透镜阵列。本发明结合了热回流工艺及PDM
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114296161 A
(43)申请公布日 2022.04.08
(21)申请号 202111623025.3
(22)申请日 2021.12.28
(71)申请人 华中科技大学
地址
原创力文档

文档评论(0)