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本发明公开了晶片打磨技术领域的一种砷化镓单晶机械抛光设备,包括支撑机构,其特征在于:还包括有打磨机构、转换机构和夹手;所述夹手滑动安装在支撑机构上端,所述打磨机构安装在支撑机构中间位置,所述转换机构固定安装在支撑机构上,且分别与打磨机构和夹手连通;保证晶片能够正常加工的前提下,最大程度的防止了晶片在加工过程中遭到夹持力的破坏几率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114346882 A
(43)申请公布日 2022.04.15
(21)申请号 202210166849.0 B24B 47/20 (2006.01)
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