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本发明属于结晶设备领域,具体公开了一种连续型旋流降膜熔融结晶器,包括物料分布管网和若干结晶管,物料分布管网包括若干分液头,结晶管的顶部连通有旋流布膜头,旋流布膜头的内壁上设有螺旋导流槽一,旋流布膜头与分液头一一对应,且旋流布膜头与对应的分液头之间留有排空通道。本发明中,旋流布膜头能够使物料以旋流的方式进入结晶管内,以便物料具有周向初速度,减缓其径向聚集态势,而且排空通道能供结晶管内空气排出,更有利于物料形成旋流,从而进一步使得物料在结晶管壁上均匀成膜,使得结晶更加均匀,提高结晶厚度的均匀性,结晶
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114405050 A
(43)申请公布日 2022.04.29
(21)申请号 202210044553.1
(22)申请日 2022.01.14
(71)申请人 上海东庚化工技术有限公司
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