一种镀膜装置及清洗工艺.pdfVIP

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2023-05-09 发布于四川
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本申请提供一种镀膜装置及清洗工艺，涉及材料表面处理技术领域。镀膜装置包括装置本体、工件转架、弧靶、挡板、辅助弧靶、脉冲偏压电源、脉冲弧电源、阳极电源及弧电源；工件转架转动设于装置本体中，弧靶及辅助弧靶分别设于装置本体内，且位于工件转架的同一侧，辅助弧靶位于弧靶的上方，挡板设于弧靶朝向工件转架的一侧，脉冲偏压电源与工件转架连接，脉冲弧电源连接弧靶，阳极电源与弧电源分别与辅助弧靶连接，脉冲偏压电源与脉冲弧电源脉冲同步。本申请镀膜装置辅助弧靶既可作为辅助阳极，还可作为正常的电弧靶沉积靶材使用，节省了镀

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114481017 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202210129087.7 (22)申请日 2022.02.11 (71)申请人松山湖材料实验室