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本发明涉及涂胶显影机技术领域,且公开了一种涂胶显影机平整涂胶的装置及方法,解决了现有的涂胶显影机自动化程度低,每次硅片的取放都很麻烦,功能比较单一,涂胶时,效率较为低下,不便于实际操作的问题,其包括控制箱,所述控制箱的上方设有若干旋转盘,旋转盘的顶部开设有放置槽,控制箱的顶部固定连接有两个侧板,控制箱的上方设有两个固定座,固定座的下方设有涂胶器本体,涂胶器本体和固定座通过液压伸缩缸连接,两个侧板之间设有与固定座相配合的驱动组件,控制箱内设有若干第一转轴;硅片自身旋转,进而使得涂胶更加平整均匀,提
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114496856 A
(43)申请公布日 2022.05.13
(21)申请号 202210104153.5
(22)申请日 2022.01.28
(71)申请人 江西维易尔半导体设备有限公司
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