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- 2023-05-10 发布于四川
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本公开提供一种用于处理工件的等离子体处理设备。在一个示例性实施例中，用于处理工件的等离子体处理设备包括处理腔室、与处理腔室分开的等离子体腔室、以及配置为在等离子体腔室中生成等离子体的感应耦合等离子体源。该设备包括设置在处理腔室内的基座，该基座配置为支撑工件。该设备包括设置在等离子体腔室中的插入件，该插入件可移动到等离子体腔室内的一个或多个竖直位置。本公开还提供了用于处理工件的方法。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114521284 A
(43)申请公布日 2022.05.20
(21)申请号 202180003888.2 (74)专利代理机构 北京易光知识产权代理有限
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