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- 2023-05-10 发布于四川
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本发明涉及抛光技术领域，具体涉及一种采用原位进料的抛光方法及用途。抛光方法包括：1)将磨粒、氧化剂、分散剂、pH调节剂、螯合剂、水混合，以提供溶液A；其中，氧化剂包括第一氧化剂和第二氧化剂；2)将还原剂溶于水中，以提供溶液B；3)将步骤1)的溶液A和步骤2)中的溶液B分别打入抛光盘中原位混合，其中，还原剂将第一氧化剂还原生成催化剂，催化剂与溶液A中的其他组分混合制得抛光液，然后进行抛光。采用本发明能极大的提高抛光速率，抛光后的材料表面质量较高；同时大幅降低原料的消耗，减少三废排放，有利于成本控制
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116061080 A
(43)申请公布日 2023.05.05
(21)申请号 202111283223.X
(22)申请日 2021.11.01
(71)申请人 上海映智研磨材料有限公司
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