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- 2023-05-10 发布于四川
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本发明涉及一种去除刻蚀设备静电卡盘表面颗粒的装置及方法,属于半导体制造设备领域,解决了现有技术中现有半导体生产设备中,在刻蚀工艺微颗粒附着在静电卡盘表面,进而造成产品良品率下滑,预防性检修增多,停机时间增加,生产效率下滑的问题。本发明公开了一种去除刻蚀设备静电卡盘表面颗粒的装置,包括:气体供应装置、调节阀门、主供气管、支供气管和喷嘴组成;支供气管沿刻蚀腔内壁设置,连接主供气管和喷嘴;喷嘴的设置位置高于静电卡盘上表面;调节阀门用于调节气体的流量;气体供应装置供应吹扫气体。本发明的装置及方法实现了半
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114520137 A
(43)申请公布日 2022.05.20
(21)申请号 202011296811.2
(22)申请日 2020.11.18
(71)申请人 中国科学院微电子研究所
地址 10
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