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一种基于曝光系统的物镜焦平面倾斜值的检测方法及装置.pdfVIP

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  • 2023-05-10 发布于四川
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一种基于曝光系统的物镜焦平面倾斜值的检测方法及装置.pdf

    本申请提供了一种基于曝光系统的物镜焦平面倾斜值的检测方法及装置，检测方法包括：通过改变可移动工作台的运动位置来执行多次曝光，在每次曝光过程中曝光光源发射的光经由掩模板和物镜，照射到晶圆上；对执行多次曝光后的晶圆进行显影，获得与掩模板上的每个图形对应的多个曝光图形；针对每个图形，确定与该图形对应的多个曝光图形中的最清晰的曝光图形，将最清晰的曝光图形所在位置确定为该图形对应的最佳曝光位置；根据各图形对应的最佳曝光位置和可移动工作台在每次曝光过程中的运动位置，确定物镜的物镜焦平面倾斜值。本申请通过多次

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114518221 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202210260750.7 (22)申请日 2022.03.16 (71)申请人 北京半导体专用设备

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