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- 2023-05-10 发布于四川
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本公开涉及半导体器件和方法。在实施例中,一种器件,包括:第一半导体条带,在衬底之上,第一半导体条带包括第一沟道区域;第二半导体条带,在衬底之上,第二半导体条带包括第二沟道区域;电介质条带,设置在第一半导体条带和第二半导体条带之间,电介质条带的宽度沿着远离衬底延伸的第一方向减小,电介质条带包括空隙;以及栅极结构,沿着第一沟道区域、沿着第二沟道区域、并且沿着电介质条带的顶表面和侧壁延伸。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114520228 A
(43)申请公布日 2022.05.20
(21)申请号 202110285205.9
(22)申请日 2021.03.17
(30)优先权数据
17/150,018 2021
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