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公开了用于设计和优化诸如集成成像头戴式显示器的高性能光场显示器的方法和框架。所公开的技术使用户定义的度量能够表征这样的系统的性能和优化。一种设计方法涉及基于集成成像的三维(3D)显示系统，该显示系统包括阵列光学体、用于产生多个元素图像的阵列显示装置、表示虚拟中心深度平面(CDP)的第一参考平面、表示用于观看经重构3D场景的观看窗口的第二参考平面，以及表示人眼模型的光学子区段。该方法包括追迹针对阵列显示装置和阵列光学体的每个元件从阵列显示装置开始、通过阵列光学体并且到达光学子区段的射线，以及调整一
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114556913 A
(43)申请公布日 2022.05.27
(21)申请号 202080068903.7 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所
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