冷却系统、准分子激光器以及曝光设备.pdfVIP

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  • 2023-05-10 发布于四川
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冷却系统、准分子激光器以及曝光设备.pdf

本发明公开了一种冷却系统、准分子激光器以及曝光设备,该冷却系统包括气源和气体回收装置,气源用于向准分子激光器的线路压窄模块的内部供给氦气,以使线路压窄模块的内部维持在预设温度,气体回收装置用于回收且处理线路压窄模块的内部的氦气,气体回收装置与气源连通,以便将被处理后的氦气输送至气源。准分子激光器启动后,激光进入到线路压窄模块内,进入到线路压窄模块内的激光依次经过线路压窄模块内的光栅和棱镜,气源的氦气对光栅以及棱镜进行吹扫,吹扫后的氦气进入到气体回收装置,气体回收装置对氦气进行处理,并且被处理后的

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114520456 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202011308538.0 (22)申请日 2020.11.19 (71)申请人 中国科学院微电子研究所 地址 10

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