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- 2023-05-10 发布于四川
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本发明属于散射介质光场调控技术领域，涉及一种基于复振幅光场调控的散射介质光场聚焦方法与装置。本发明首次提出对入射散射介质内的光场进行复振幅调控，通过对相位和振幅同时调控来不断优化目标复振幅光场，进而优化光经过散射介质扰乱后形成的散斑分布，得到所需形成的聚焦光束。同时，本发明还提出利用自然进化策略显著提高了散射介质入射光场波阵面的优化速度，可有效克服散射介质动态变化对光学聚焦造成的影响。本发明将复振幅光场调控技术运用到散射介质光场光束聚焦中，增加了光场调控的维度，大幅提升了散射介质内光场调控的质量
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114518659 A
(43)申请公布日 2022.05.20
(21)申请号 202011315091.X
(22)申请日 2020.11.20
(71)申请人 绍兴钜光光电科技有限公司
地址 3
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