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一种晶圆托盘结构及设备.pdfVIP

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  • 2023-05-10 发布于四川
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一种晶圆托盘结构及设备.pdf

    本发明实施例公开了一种晶圆托盘结构及设备，其中晶圆托盘结构包括：托盘底和环状结构，盘壁为环状结构，环状结构设置在托盘底的边缘，可对晶圆进行限位；其中，环状结构上环绕设置有弧形凸起；当晶圆放置在托盘底时，弧形凸起的高度大于或等于晶圆的边缘高度，可在CVD工艺过程中防止晶圆边部的离子反射，有效的降低了离子浓度，保证了晶圆边缘部分和中心部分的离子浓度均匀性。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114517292 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202011299798.6 (22)申请日 2020.11.18 (71)申请人 中国科学院微电子研究所 地址 10

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