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- 2023-05-10 发布于四川
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公开了一种基板处理装置，该基板处理装置包括：第一腔室，在该第一腔室中执行对基板的蚀刻工艺；腔室窗，布置在第一腔室的一个表面上；激光模块，布置在第一腔室的外部，并通过腔室窗向基板照射激光束，以执行蚀刻工艺；第一保护窗，位于基板和腔室窗之间；第二腔室，布置在第一腔室的一侧；传送部，将第一保护窗从第一腔室传送到第二腔室；以及清洗模块，布置在第二腔室的内部，并对传送到第二腔室的第一保护窗执行清洗工艺。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114520167 A
(43)申请公布日 2022.05.20
(21)申请号 202111374572.2
(22)申请日 2021.11.17
(30)优先权数据
10-2020-0156813
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