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一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法.pdfVIP

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  • 2023-05-10 发布于四川
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一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法.pdf

    本发明提供了一种双面曝光系统的校正方法及曝光方法，所述双面曝光系统包括校正对位系统包括至少两个对位相机，设定所述校正对位系统的一对位相机为基准相机，获取以基准相机为基准的世界坐标系；其余对位相机均统一至基准相机的世界坐标系；第一曝光系统和第二曝光系统分别曝光第一图形标记和第二图形标记至运动平台上设置的标尺；通过对位相机获取第一图形标记和第二图形标记的世界坐标，得到所述第一曝光系统和第二曝光系统的世界坐标。根据所述第一曝光系统和所述第二曝光系统的世界坐标，计算所述第一曝光系统和第二曝光系统的图形数

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114518695 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202011312520.8 (22)申请日 2020.11.20 (71)申请人 苏州源卓光电科技有限公司 地址 2

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