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本发明包括(a)向配置于处理室的衬底供给处理气体而对衬底进行处理的工序、和(b)向处理室供给清洁气体而将附着于处理室内的部件的沉积物除去的工序,使从(b)的执行完成时至第n+1次进行的(a)的执行开始时为止的期间T2短于从第n次进行的(a)完成时至(b)开始执行时为止的期间T1。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114556530 A
(43)申请公布日 2022.05.27
(21)申请号 202080072930.1 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所
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