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- 2023-05-11 发布于四川
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本申请实施例公开了一种阵列基板、阵列基板的制作方法以及显示装置,阵列基板包括基板、栅极和氧化物半导体层,栅极和氧化物半导体层设于基板的同侧,栅极和氧化物半导体层在基板的投影至少部分重叠,且栅极和氧化物半导体层间隔设置;其中,氧化物半导体层的材料包括改性金属元素,改性金属元素在所有金属元素中的占比由栅极朝氧化物半导体层的方向逐渐递减,可以解决金属氧化物薄膜晶体管的稳定性差和迁移率低的技术问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114582893 A
(43)申请公布日 2022.06.03
(21)申请号 202210230045.2
(22)申请日 2022.03.10
(71)申请人 广州华星光电半导体显示技术有限
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