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于此所公开的实施例通常关于用于提供处理气体到半导体处理腔室中的改进的均匀分配的气体分配组件。气体分配组件包括气体分配板、区隔板和双区喷头。气体分配组件提供独立的中心到边缘的流动地带性、独立的两种前驱物输送、经由混合歧管的两种前驱物混合及气体分配板中的递归质量流量分配。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 109155242 A
(43)申请公布日
2019.01.04
(21)申请号 20178
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