一种半导体原子层沉积设备用陶瓷产品洗净方法.pdfVIP

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2023-05-12 发布于四川
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一种半导体原子层沉积设备用陶瓷产品洗净方法.pdf

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本发明公开了一种半导体原子层沉积设备用陶瓷产品洗净方法，旨在解决陶瓷产品表面清洗效果不佳的不足。该发明包括陶瓷产品依次经过化学清洗和超声波清洗，清洗彻底。采用脱脂液浸泡产品，根据酯化反应原理可去除产品加工工程中蜡、切屑液等有机残余。采用混酸液浸泡产品，可将金属离子转变成易于溶解的络合物，能有效去除Ca、Na、K、Fe、Cu、Cr、Zn等金属。高强度的声波引起压力起伏，进而形成空心化水泡，水泡破裂会释放足够的能量，将颗粒从产品表面移除。采用这种方法清洗陶瓷产品能将氧化铝陶瓷产品表面的无机物、有机物

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 114618821 B (45)授权公告日 2023.03.28 (21)申请号 202111135264.4 (51)Int.Cl.