一种半导体结构的制造方法.pdfVIP

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2023-05-12 发布于北京
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一种半导体结构的制造方法.pdf

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本发明提供一种半导体结构的制造方法，涉及半导体技术领域，可降低抗反射涂层的亲水性。该半导体结构的制造方法包括：提供半导体衬底；在所述半导体衬底上形成抗反射涂层，所述抗反射涂层的材料包括硅共价键；向反应腔室通入含氧气体，并打开所述反应腔室的电源，所述含氧气体与所述抗反射涂层表面的硅共价键反应；在所述抗反射涂层上形成光刻胶涂层。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114597121 A (43)申请公布日 2022.06.07 (21)申请号 202011412173.6 (22)申请日 2020.12.04 (71)申请人中国科学院微电子研究所地址 10