一种连续式ALD镀膜设备.pdfVIP

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2023-05-13 发布于北京
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本发明提供了一种连续式ALD镀膜设备，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种连续式ALD镀膜设备包含箱体组件、真空组件、驱动组件和检测组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体。加热腔体设置有加热腔室。连接腔体内设置有用以给工件镀膜的镀膜腔室。冷却腔体设置有冷却腔室。加热腔室和冷却腔室分别能够连通于镀膜腔室。真空组件接合于箱体组件用以抽真空，从而使得加热腔室和冷却腔室能够真空连接于镀膜腔室。驱动组件接合于箱体组件，用以驱使工件在加热腔室、镀膜腔室和冷却腔室之间移动。检测组件接合于箱体组

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114657537 A (43)申请公布日 2022.06.24 (21)申请号 202210298212.7 (22)申请日 2022.03.25 (71)申请人厦门韫茂科技有限公司地址 361