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本发明公开了一种身管内膛表面的高熵合金薄膜及其制备方法,对身管内膛基体依次进行超声清洗和等离子清洗;采用等离子溅射方法,基于WMoTaNb靶在等离子清洗后的身管内膛基体表面沉积WMoTaNb层;采用等离子溅射方法,基于WMoTaNb靶和Si靶在WMoTaNb层上沉积WMoTaNbSi梯度过渡层;采用等离子溅射方法,基于WMoTaNb靶和Si靶在WMoTaNbSi梯度过渡层上沉积WMoTaNbSi层,得到高熵合金薄膜;本发明通过在内膛表面制备高熵合金薄膜来替代原有的Cr涂层,该高熵合金薄膜具有熔点
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114657514 A
(43)申请公布日 2022.06.24
(21)申请号 202210247384.1
(22)申请日 2022.03.14
(71)申请人 西安工业大学
地址 710021
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