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一种表面富含缺陷的超薄钯纳米片及其制备方法.pdfVIP

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  • 2023-05-14 发布于四川
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一种表面富含缺陷的超薄钯纳米片及其制备方法.pdf

    本发明公开了一种表面富含缺陷的超薄钯纳米片及其制备方法，属于新能源、纳米材料、贵金属制备技术领域。本发明通过采用乙酰丙酮钯为金属前驱体，柠檬酸为还原剂，N,N‑二甲基甲酰胺为溶剂，通过优化液相还原反应温度，得到超薄(3‑4个原子层)钯纳米片；然后将新鲜制备的钯纳米片分散于氩气饱和的乙醇或水溶液中，在室温下静置15‑360天，即可得到表面富含缺陷的钯纳米片；通过本发明得到的钯纳米片在高能电子束照射过程中具有优异的结构稳定性，为开发稳定且高性能的钯基催化剂提供一定的技术支撑。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114669753 A (43)申请公布日 2022.06.28 (21)申请号 202210066497.1 B01J 23/44 (2006.01)

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