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本申请提供一种立式镀膜装置,涉及半导体制备技术领域,包括基座、镀膜机构以及转动设置于基座上的公转机构,在公转机构的周壁设置有载板,在载板上转动设置有用于放置平面基板的自转机构,公转机构的转动平面与自转机构的转动平面垂直,镀膜机构设置于基座且与平面基板对应,以此通过自转能够改变平面基板表面位置点与镀膜机构的距离,从而平衡各位置点距离的差异化,进而减小平面基板表面镀膜的横向散差,提高产品的均匀性和良率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114717531 A
(43)申请公布日 2022.07.08
(21)申请号 202210404611.7
(22)申请日 2022.04.18
(71)申请人 浙江水晶光电科技股份有限公司
地址
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