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本发明涉及一种离子液体添加剂在电解铜箔中的应用及高抗拉高延伸电解铜箔的制备方法，所述离子液体添加剂的结构为：其中，R1、R2代表任意烷基基团中的一种；X代表H、‑COOH、‑SO3H、‑PO3H、‑NH2、‑SH、‑CN中的一种；Y代表任意阴离子中的一种。本发明是利用定向合成的离子液体添加剂配制电解液，使其与电解液中的硫酸和硫酸铜产生协同促进作用，该添加剂在直流电沉积工艺条件下能够同步提高铜箔抗拉强度以及延伸率，降低铜箔表面粗糙度和平均晶粒尺寸；本发明采用可替代传统复合添加剂的新型单一离子液体添
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116024618 A
(43)申请公布日 2023.04.28
(21)申请号 202310155372.0
(22)申请日 2023.02.23
(71)申请人 河南科技大学
地址 471000
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