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本发明公开了一种先进芯片制造用清洗水的提纯装置与方法，提纯装置中，至少一个第一壳体为透明隔热的中空封闭结构；至少一个辐射光源设于中空封闭结构内以形成真空辐射腔；待提纯水自下支撑孔板进入第一反应腔且自第二壳体上部的流出孔流出以构成水流通道，水流通道至少部分地重叠于光解区以光催化氧化待提纯水形成第一处理水；来自密封腔的第一处理水依次在正电吸附区去除羧酸类小分子有机物和碳酸、催化反应区淬灭自由基复合氧化剂以及离子抛光区降除痕量金属、非金属离子、弱离子化无机盐、溶解性低分子有机物形成先进芯片制造用清洗水
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115626745 A
(43)申请公布日 2023.01.20
(21)申请号 202211436535.4 C02F 1/46 (2006.01)
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