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用于具有气流旋转的外延反应器的反应室的基底支撑装置、反应室和外延反应器.pdfVIP

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  • 2023-05-15 发布于四川
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用于具有气流旋转的外延反应器的反应室的基底支撑装置、反应室和外延反应器.pdf

    一种用于在外延反应器的反应室中支撑基底的装置(420)；装置(420)包括：盘形元件(422)，其具有第一面(422A)和第二面(422B)，第一面(422A)适于在使用装置(420)时向上定位，第二面(422B)适于在使用装置(420)时向下定位，所述盘形元件(422)适于接收气流(F)以使装置(420)绕其轴线(X)旋转；基底支撑元件(424)，其与所述盘形元件(422)成单件并且优选地邻近所述第一面(422A)；以及轴(426)，其与所述盘形元件(422)同轴，与所述盘形元件(422)成单

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114729453 A (43)申请公布日 2022.07.08 (21)申请号 202080081390.3 (74)专利代理机构 北京安信方达知识产权代理

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