低温负性黑色光刻胶组合物及其黑色矩阵.pdfVIP

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2023-05-16 发布于四川
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低温负性黑色光刻胶组合物及其黑色矩阵.pdf

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本发明涉及一种低温负性黑色光刻胶组合物及其黑色矩阵，包括有机溶剂和溶解在有机溶剂中的溶质，溶质占组合物总重量的15‑60%，其中溶质包括：含有双键和羟基的光固化树脂、碱溶性丙烯酸酯类光聚合单体、光引发剂、着色剂和低温封闭型异氰酸酯交联剂。本发明的光刻胶组合物通过加入含有双键和羟基的光固化树脂和碱溶性丙烯酸酯类光聚合单体，由光引发剂引发聚合，提升了光刻胶的粘着性；并添加低温封闭型异氰酸酯交联剂，使得光固化树脂和光聚合单体中的羟基可以在较低温度下进行充分交联聚合，进一步提升固化膜的强度和稳定性，减少

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114755890 A (43)申请公布日 2022.07.15 (21)申请号 202210052881.6 (22)申请日 2022.01.18 (71)申请人深圳迪道微电子科技