一种光学元件体缺陷的提取方法.pdfVIP

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  • 2023-05-16 发布于四川
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本发明公开了一种光学元件体缺陷的提取方法,包括:(1)采用两台激光光源发出光线,分别经过分光镜和反射镜,照射光学元件内部,经过内部体缺陷散射后在CCD处成像;(2)针对光学元件内不同层次扫描得到的体缺陷二维图像,计算相邻两层之间光斑外接矩形的交并比,判断是否为同一个体缺陷;(3)进行预处理,并设置灰度阈值进行二值化;(4)划分感兴趣区域,并建立滑窗对其遍历进行逐点扫描;(5)计算滑窗处的清晰度,对实验中光斑图案进行判别并去除不清晰部分;(6)结合附近层次体缺陷扫描二维图像计算亮斑的外接矩形长宽比

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 111899215 A (43)申请公布日 2020.11.06 (21)申请号 202010543080.0 G01N 21/88 (2006.01)

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