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一剂型高效长寿命铜钼蚀刻液、其制备方法及应用.pdfVIP

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  • 2023-05-17 发布于四川
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一剂型高效长寿命铜钼蚀刻液、其制备方法及应用.pdf

    本发明提供一种一剂型高效长寿命铜钼蚀刻液、其制备方法及应用。所述一剂型高效长寿命铜钼蚀刻液，包括质量配比如下的各组分：氧化剂5‑10份；三元无机酸1‑3份；有机酸2‑8份；有机碱4‑9份；磷酸二氢盐和/或砷酸二氢盐0.1‑1份；有机金属盐0.05‑0.1份；蚀刻抑制剂0.001‑0.005份；去离子水70‑85份。本发明铜钼蚀刻液能应用在TFT‑LCD面板制造所涉及的铜制程领域中，在铜钼金属层蚀刻过程中不需要补充抑制剂，即可实现高效蚀刻，其稳定的使用寿命可达到10000ppm溶铜量，并且仅在添加

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114807941 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210179170.5 (22)申请日 2022.02.25 (71)申请人 浙江奥首材料科技有限公司 地址 3

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