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- 2023-05-17 发布于四川
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本发明涉及一种氟化对象物的氟化加工方法以及由此方法氟化加工的部件,其能够通过基于大气压高频等离子体的氟化物的涂层实现对半导体工艺中的各种部件等的高密度以及高强度的同时显著提高生产率,尤其适用于大面积半导体设备的正常蚀刻率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116005129 A
(43)申请公布日 2023.04.25
(21)申请号 202211259990.1
(22)申请日 2022.10.14
(30)优先权数据
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