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- 2023-05-17 发布于四川
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本发明提供了一种半导体光学检测方法及系统，半导体光学检测方法包括采用光学系统对待测样本进行拍摄以得到初始图片，根据初始图片中不同区域的信号强度的大小将待测样本划分为若干个信号区域；获取反射率信息和系统光学效率信息；调整所述光学系统中的检测光源不同配置的光强，并根据反射率信息和系统光学效率信息计算得到不同光强的光学系统在信号区域中的信号强度；计算信号区域中的信号强度与预设检测强度之间的方差，以获取目标光强配置信息；按照目标光强配置信息对检测光源进行配置后，通过光学系统对待测目标进行拍摄以获取检测结
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114813770 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210296167.1
(22)申请日 2022.03.24
(71)申请人 上海御微半导体技术有限公司
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