一种静电效应下制备100μm以下均一焊球的装置及方法.pdfVIP

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2023-05-18 发布于北京
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一种静电效应下制备100μm以下均一焊球的装置及方法.pdf

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本发明公开了一种静电效应下制备100μm以下均一焊球的装置及方法，该装置提供适用于芯片级电子封装用微焊球及其它金属微颗粒的高频高质制备。技术方案所述装置主要包括电磁扰动发生器，静电驱动装置，温控系统，气控系统和成球系统。通过合理匹配电磁扰动参数(电流频率、电流波形、电流的幅值和磁场强度)和静电电压参数以实现100μm以下均一焊球的制备。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114850482 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210461989.0 (22)申请日 2022.04.28 (71)申请人北华航天工业学院地址 06500