一种单晶大尺寸硅片用高游离碱度单组分清洗剂.pdfVIP

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2023-05-18 发布于北京
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一种单晶大尺寸硅片用高游离碱度单组分清洗剂.pdf

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本发明涉及一种单晶大尺寸硅片用高游离碱度单组分清洗剂，该清洗剂以重量组分计包括：无机碱15~35份，润湿分散剂5~15，润湿分散剂3~8份，纯水余量。本发明具有如下有益效果：具有高游离碱性的单组分低泡沫类型产品，使用操作方便；对大尺寸单晶硅片表面污物的分散能力强，湿性能佳；易被漂洗、低残留；对沾污硅粉的碱蚀反应能力强，硅片表面的金属离子残留浓度极低；非常适合大尺寸单晶硅片表面的清洗。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114806752 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210572090.6 (22)申请日 2022.05.25 (71)申请人武汉宜田科技发展有限公司地址 4