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2023-05-18 发布于北京
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本公开涉及一种粘合剂膜，并且粘合剂膜包括：光热转换层，该光热转换层包含光吸收剂和热解树脂；粘合剂基膜层，该粘合剂基膜层设置在该光热转换层上；缓冲层，该缓冲层设置在该粘合剂基膜层上；以及粘合剂层，该粘合剂层设置在该缓冲层上，并且该缓冲层包含聚硅氧烷树脂，并且该粘合剂层包含硅基粘合剂，并且该硅基粘合剂包含硅基增粘剂和聚硅氧烷树脂。根据本公开的粘合剂膜能够简化处理基底的方法，并且可防止对所述基底和形成在所述基底上的电路或元件的损坏。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114846101 A (43)申请公布日 2022.08.02 (21)申请号 202080085179.9 (74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任