一种电子束冰刻工艺的光刻形貌计算方法.pdfVIP

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2023-05-18 发布于四川
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一种电子束冰刻工艺的光刻形貌计算方法.pdf

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本发明属于电子束光刻技术领域，具体为一种电子束冰刻工艺的光刻形貌计算方法。本发明以GenISys公司提供的TRACER、BEAMER和LAB仿真软件为平台进行电子束冰刻工艺光刻胶形貌的计算，基于实验光刻版图、初始电子束能量和电子数量、电子束斑尺寸、衬底材料和厚度、光刻胶材料、厚度和对比度实验数据的情况下，计算冰刻工艺中电子束光刻胶的光刻形貌，包括极低温度下的水冰、苯甲醚、醇类、烷烃类、其他无需溶液显影工艺的冰光刻胶和在仿真中无需显影工艺的电子束光刻胶。本发明可为电子束冰刻工艺的光刻形貌预测提供参

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114859668 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210369502.6 (22)申请日 2022.04.08 (71)申请人复旦大学地址 200433 上海