双蒸发源与等离子体镀膜源结合的新型真空镀膜设备.pdfVIP

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2023-05-19 发布于北京
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双蒸发源与等离子体镀膜源结合的新型真空镀膜设备.pdf

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本发明公开一种双蒸发源与等离子体镀膜源结合的新型真空镀膜设备，包括真空室、设于真空室内的放卷系统和收卷系统，在放卷系统和收卷系统之间设有双镀膜辊，真空室内设有隔气板，隔气板将真空室内部分成等离子体镀膜源腔室和蒸发镀膜室，双镀膜辊设于等离子体镀膜源腔室中，薄膜基材从放卷系统输出，进入等离子体镀膜源腔室及蒸发镀膜室、绕过双镀膜辊后复卷在收卷系统上。本发明的一种双蒸发源与等离子体镀膜源结合的等离子体镀膜源结合的新型真空镀膜设备，复合蒸发镀膜和等离子体镀膜源成膜于一体，实现等离子体镀膜源成膜与热蒸发相互

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114875368 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210625252.8 (22)申请日 2022.06.02 (71)申请人广东腾胜科技创新有限公司地址 5